80年代：从芯片开始到国防工业 第十九章 光刻机首测2

在一间布满高科技设备的实验室内，架子上整齐排列着几十片直径为100mm的晶圆，它们是由梁老近期使用许阳设计的单晶炉精心制作的。

这个单晶炉，是科技团队数月心血的结晶，它不仅代表了先进的技术，更承载了大家对创新的无限期望。

这些晶圆都是从一条完美无瑕的单晶硅柱切割而来，每一片在灯光下，晶圆表面反射出淡淡的光泽，它们是那么地纯净，仿佛能看见未来的辉煌。

李涛，正戴着专业的手套，对这些宝贵的晶圆进行清洗。

他的动作十分小心翼翼，因为任何一点小小的失误，都可能导致晶圆报废。

水流轻轻地冲刷着晶圆表面，去离子操作紧接着展开，彻底清除掉上面的污染物和金属离子。

李涛的眉头紧锁，全神贯注于手上的每一个细节。

增黏处理是接下来的步骤，这是为了确保光刻胶能够均匀而牢固地粘附在晶圆上。

整个实验室里静悄悄的，所有的目光都聚焦在李涛的身上，空气中弥漫着一股紧张而期待的氛围。

只有王泽不时地出声，用他那富有经验的声音指导着每一个环节，保证操作的精确无误。

涂抹光刻胶的过程同样需要极其精准的操作。

操作台上，晶圆开始匀速旋转，而李涛则小心地将光刻胶涂在晶圆表面。

这一层薄薄的光刻胶，就像是未来芯片的草图，它将在接下来的光刻步骤中被转化为实实在在的电路图案。

接下来，是芯片制造过程中最为关键、最富戏剧性的一步——光刻。

晶圆被轻轻放置在一台桌子大小的光刻机工件台上。

这台机器是精密工艺的杰作，它能够在晶圆上刻画出纳米级别的电路图案。

“打开光源进行光刻！”

王泽立马冷静吩咐道。

旁边有人开始通电，一盏高压汞灯的光源，猛地绽放出光芒，然后照射在光掩膜上面。

实验室里的空气几乎凝固，每个人的心跳都随着机器的操作而加速。

光掩膜是芯片的蓝图，是一张刻有集成电路版图的玻璃遮光板，光线从光掩膜上面透过，照射在硅晶圆上面，通过与光刻胶的反应，便留下了我们想要的集成电路图。

光线透过精细的掩模版，照射在旋涂了光刻胶的晶圆上。

光与影的交织，就像是一场微观世界的华丽舞蹈。

光线中的紫外线会与光刻胶进行反应，造成光刻胶硬化或者疲软，然后被特定的溶液清除，晶圆上就留下了我们想要的电路图案。

当然，芯片还需要进行刻蚀和沉积工作，注入特定的离子，形成一个个晶体管。

那些线条和图案，将被永久地印刻在晶圆之上，成为连接千万个晶体管的纽带。

这个过程不仅是技术的展示，更是智慧的较量。每一个参数的调整，每一次曝光的控制，都需要无比精确和细致。

时间在一点点流逝，所有人大气都不敢出，只能看着工作人员不断重复的工作。

王泽的眼睛紧紧地盯着显示器上的数值，他的手指轻轻地敲打着键盘，确保每一步都达到最佳状态。

随着时间的推移，光刻终于完成。

由于光刻工作太繁杂，众人都是换着来的。

累了就换成另外一个人继续干。