都市：开局奖励夏科院 第五章 光刻胶等配套研发团队

另一边光刻机配套设施的研究团队还差光刻胶没有研发完成。

晶圆倒还好，毕竟有个京东方，但是光刻胶咱们国家还没有研发到高端，不过即使咱们国家研发到高端也不行，因为芯片的材料他们准备用石墨烯

是的，你没听错就是，石墨烯，毕竟只要石墨烯量产，京东方可以马上做出晶圆来，光刻胶不行。

（科普一下，看小说顺便涨涨知识，万一哪天就变成科学家了呢？是吧）

石墨烯（Graphene）是一种以sp2杂化连接的碳原子紧密堆积成单层二维蜂窝状晶格结构的新材料。石墨烯具有优异的光学、电学、力学特性，在材料学、微纳加工、能源、生物医学和药物传递等方面具有重要的应用前景，被认为是一种未来革命性的材料。

但是石墨烯因为剥离问题无法大规模生产，不过，只要皮米级光刻机的研发成功就基本上宣布石墨烯机器剥离机器的研发工作到了一半多，毕竟技术的互通性比较强，只要你有一项技术研究成功，就可以拿着这个研究成果转到特定的领域，日国的基础材料巨头就是这样，举个例子，基础材料的结构，日国可以把这个材料结构转换到别的领域，比如说轮胎等等，所以说把我们国家的基础材料厂商和一些厂商搞的死去活来，毕竟打着打着你突然间去别的领域了，还搞得一阵鸡飞狗跳，让人一点防备都没有，凭借技术领先和价格低廉，把你清出市场，出局时，你甚至都还没反应过来，所以说技术的互通性在特定的领域还是很强的。

现在来说光刻胶这个东西。

（给各位读者大佬们科普一下，毕竟都是要当科学家的蓝人。）【其实我就想水字数，狗头保命】

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。

所以光刻胶是一个非常难的技术。

……

“老王啊，咱这个光刻胶可以吗？”

“我感觉可以，毕竟都通过测试了，不过还要上光刻机看看最后的结果有没有偏差，就是石墨烯剥离机器要等光刻机研发完才能着手准备。”

“我估计他们应该差不多快弄好了，弄好了直接搞石墨烯剥离机器。”

“这样，我打个电话问问。”

说完老王就走出实验室拿出手机打给了李院长。

“老李，你们那光刻机好了吗？我们光刻胶就差光刻机和石墨烯晶圆试试水了。”（有人说找外面的光刻机试不行吗？行到是行就是效果不如高端的光刻机测试的好，再说这是配套的，和外面不一样，毕竟一个用的是碳基，一个用的是石墨烯。）

“老王别提了，今天组装结果有个地方出问题了，效果不如计算的好，又花了半天时间，把光刻机拆了，我看大家都挺累的，就喊大家回去休息，明天解决问题。”

“要我们帮忙不？”

“你们那搞好了？”

“最后的光刻胶搞好了，就差上光刻机了。”

（石墨烯晶圆外面还是有的，就是没法大规模量产。）

“那行，你们明天过来帮忙吧，刚好有点忙不过来，明天解决完问题，光刻机就可以宣布研发成功了，研发成功，然后咱们就开始研发石墨烯剥离机器，争取这个月把它搞出来。”

“那好，明天见老李。”

“明天见。”

……