微型工程崛起，开局激光坦克灭蚊 第20章 最纯净的激光光源

目前顶尖光刻机有两条技术路线，一种是采用DUV光源，最先进的DUV光源波长也达到了193纳米，波长太长，只能制造7纳米以上制程的芯片。

另一种是采用EUV光源，光源波长只有13.5纳米。

采用EUV光源的光刻机，基本分辨率是7纳米，理论制程工艺极限是1纳米。

制造一套光刻机设备，涉及到的技术环节非常多。

而其中最难的一个环节，就是极高分辨率，纯度极高激光的获取。

ASML的光刻机，为了获得那小小的一束激光，光是投影物镜，就重达500公斤。

反射镜上要镀几十层镀膜，而且反射镜几乎要绝对的光滑，干净。

如果将反射镜放大到蓝星这么大，那它上面只能有一根头发丝直径的小凸起。

这还是镀数十层膜后的光滑度，意味着每一层膜都要更加平整。

这可能是宇宙中最光滑的人造结构了。

之所以要用到如此复杂的反射镜系统，是因为目前人类制造的激光光源都不够纯净。

一个设计波长100纳米的激光光源，射出的激光中，会有大量其他波长的杂光。

而这套庞大复杂，挑战人类工程极限的反射系统，仅仅为了过滤这些杂光，只保留特定波长的纯净EUV。

那么，如果有一个激光光源，本身就可以生成纯净，精确波长的高分辨率激光……

想到此处，何帆突然心中火热！

是的，他是可以获得极为纯净激光光源的。

系统给出的激光炮作战组蓝图中，激光组件可以生成指定波长的激光。

而按照系统说明，这个激光的纯度，可以精确到小数点后一百多位。

更高纯度的激光，是应用在工程设备上的。

当然，这个工程设备的定义，是创造出系统的文明的定义。

直接生成高纯度激光，还有一个极大的优势：降低功耗。

EUV的能源转换效率只有0.02%左右。

其中的大多数能量，都在层层净化过程中，被损耗掉了。

目前250瓦功率的EUV光刻机，需要输入1250千瓦的电力才能达到。

生产5纳米芯片，需要500瓦的激光。

生产1纳米芯片，需要1000瓦的激光。

只看这些数字的话，似乎也没什么，也就几百瓦。

但再看另一个数字的话，就很恐怖了。

泰积电生产7纳米芯片的EUV光刻机，每台刻机每天耗电量高达3万度。

对于系统出品的激光系统，这些都不是问题，

原始光源就是极高纯度的激光，根本不需要经过那么多道反射过滤，也就没有了损耗。

同样是生产7纳米芯片，使用激光炮的激光组件，一天只需要消耗……6度电！

当然，这是只计算光源耗电的情况。

实际上，光刻机还有大量其他组件，但那些组件的耗电，和光源比起来，基本可以忽略不计了。

一台光刻机，算上其他能耗，一天6度不够，那一天60度？一天600度？

黑！

系统提供的科技真黑！

吴志超有些诧异。

他为了引出话题，只是随口问了一下这个叫何帆的年轻人对光刻机的了解。

对方的回答挺细致，看来是真的仔细了解过的。

但是，这人在回答完之后，为什么表情越来越奇怪？怎么还笑起来了？

“喂，你没事吧？”吴志超叫了几声，都不见何帆再有反应，只好伸手拍拍他的肩膀。

“没事没事，我突然想到些事。我们继续，刚才说哪了？”何帆终于回过了神。

“我观察了一下，你们这个产品的激光光源，整套系统非常先进，各个方面都非常先进。”

吴志超顿了一下，感叹一声，继续说道：“我没看错的话，那个坦克射出的所有激光，应该都是经过变焦的。”

“做指引的时候，投射出分散的光柱，扩大照射面。烧蚊子的时候，高精读聚焦，提高接触面能量强度。”

“这套系统太精密了！可以看得出，你们公司在激光这个领域研发实力很强。”

“你做过仔细了解的，那么应该知道，光刻机，其中一个很大的难点就是激光光源。所以我想和你们公司了解一下这方面的情况，看你们的技术，对制造光刻机有没有什么帮助。”

说完，吴志超又叹了口气。

他也明白，其实自己这是在病急乱投医，不放弃任何一个可能的机会。

毕竟这么多年了，龙国一直在攻克这些难关，但一直没有取得最后的突破。

太难了。